Pat
J-GLOBAL ID:200903055548192743
ブロック共重合体の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999235261
Publication number (International publication number):2001059007
Application date: Aug. 23, 1999
Publication date: Mar. 06, 2001
Summary:
【要約】【課題】 ホモポリマー含量が少なく、各種物性および加工性に優れたブロック共重合体の製造方法の提供。【解決手段】 末端にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体を一般式:BH2-R(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、水酸基、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアミノ基からなる群より選ばれる原子または基を表す。)で示されるホウ素化合物によりヒドロホウ素化した後、活性水素含有化合物との反応により変性し、次いで酸化剤と接触させることにより製造した過酸化物基含有重合体の存在下に、エチレン性不飽和単量体およびジエン系単量体からなる群より選ばれる少なくとも一種の単量体を重合させることを特徴とするブロック共重合体の製造方法。
Claim (excerpt):
末端にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体を下記一般式(I)で示されるホウ素化合物によりヒドロホウ素化した後、活性水素含有化合物との反応により変性し、次いで酸化剤と接触させることにより製造した過酸化物基含有重合体の存在下に、エチレン性不飽和単量体およびジエン系単量体からなる群より選ばれる少なくとも一種の単量体を重合させることを特徴とするブロック共重合体の製造方法。BH2-R (I)(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、水酸基、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアミノ基からなる群より選ばれる原子または基を表す。)
IPC (3):
C08F293/00
, C08F 4/32
, C08F 8/00
FI (3):
C08F293/00
, C08F 4/32
, C08F 8/00
F-Term (63):
4J015BA03
, 4J026HA01
, 4J026HA03
, 4J026HA04
, 4J026HA27
, 4J026HA50
, 4J026HB02
, 4J026HB03
, 4J026HB04
, 4J026HB05
, 4J026HB06
, 4J026HB09
, 4J026HB10
, 4J026HB11
, 4J026HB12
, 4J026HB14
, 4J026HB15
, 4J026HB16
, 4J026HB19
, 4J026HB23
, 4J026HE01
, 4J026HE02
, 4J100AA02P
, 4J100AA03P
, 4J100AA03Q
, 4J100AA04Q
, 4J100AA07Q
, 4J100AA16Q
, 4J100AA17Q
, 4J100AA19Q
, 4J100AA21Q
, 4J100AG04Q
, 4J100AL03Q
, 4J100AR10R
, 4J100AR18R
, 4J100AR22R
, 4J100AS11R
, 4J100AS15R
, 4J100AS21R
, 4J100AU21R
, 4J100BA01H
, 4J100BA23H
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA27
, 4J100CA31
, 4J100HA01
, 4J100HA55
, 4J100HA61
, 4J100HB07
, 4J100HB08
, 4J100HB34
, 4J100HB36
, 4J100HB52
, 4J100HB63
, 4J100HC09
, 4J100HC10
, 4J100HC27
, 4J100HC36
, 4J100HC43
, 4J100HC50
, 4J100HC70
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