Pat
J-GLOBAL ID:200903055549802677
有機ハイドライド/金属ハイドライドヒートポンプ
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1994514576
Publication number (International publication number):1996507361
Application date: Dec. 13, 1993
Publication date: Aug. 06, 1996
Summary:
【要約】有機ハイドライドシステム(12)と金属ハイドライドシステム(2)とを有するヒートポンプは、被調和空間(6)を、金属ハイドライド床(4)へ前記被調和空間から熱を移動させることで冷却するとともに、前記床中の金属ハイドライドを分解してH2を形成する。このH2は前記液体ハイドライドシステム(12)中の蒸気層(14)へ導入され、脱水素化物と前記蒸気層中の触媒表面(32)で反応して有機ハイドライドを形成するとともに反応により発熱させる。前記ヒートポンプはまた、前記金属ハイドライドを分解させるための比較的低温の熱源から熱を移動させてその廃熱を再利用を使用することもできる。前記反応による前記発熱は、その後前記蒸気層から除去されて空間を加熱するために使用することもできる。両実施例においては、前記金属ハイドライド床(4)は、前記触媒表面(32)に反応による吸熱分を供給して前記有機ハイドライドを脱水素化しH2を製造して再生することができる。このH2は前記金属ハイドライド床(4)へと導入されて、前記金属ハイドライド床と反応して前記金属ハイドライドが再生される。また、前記金属ハイドライド床(4)は、前記有機ハイドライドからなる液体混合物を脱水素化触媒(42)を有する反応領域(38)へと導入し、前記反応領域へ反応による吸熱分を供給することによって前記有機ハイドライドを脱水素化してH2を製造して再生することもできる。前述したように、このH2は、前記金属ハイドライドが再生される前記金属ハイドライド床(4)へと導入される。
Claim (excerpt):
有機ハイドライドシステム(12)と、金属ハイドライドシステム(2)と、(c)ダクト(10)と、を有してなるヒートポンプであって、(a) 前記有機ハイドライドシステム(12)は、(i) 液体層(18)と蒸気層(14)とを有する容器(16)と、(ii) 前記蒸気層(14)中に配設され、有機ハイドライドを脱水素化してH2を製造し、かつ有機脱水素化物へ水素添加して有機ハイドライドを製造することができる触媒表面(32)と、(iii) 前記触媒表面(32)で脱水素化が行われている場合には前記触媒表面(32)を加熱する手段と、(iv) 前記触媒表面(32)で水素添加が行なわれている場合には前記触媒表面(32)を冷却する手段と、を有してなるともに、(b) 前記金属ハイドライドシステム(2)は、(i) 金属ハイドライド床(4)と、(ii) 熱源から前記金属ハイドライド床(4)へ熱を移動させる手段と、を有してなり、(c) さらに前記ダクト(10)は、前記有機ハイドライドシステム(12)の蒸気層(14)と前記金属ハイドライドシステム(2)とを連通していることを特徴とするヒートポンプ。
Return to Previous Page