Pat

J-GLOBAL ID：200903055569672079

回転式基板処理装置の基板回転保持具

Inventor： 福冨 義光 ,  大谷 正美 ,  中村 靖
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 北谷 寿一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991276915
Publication number (International publication number)：1993090238
Application date： Sep. 27, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】 構成を簡素化し、オリエンテーションフラット等の切り欠きを有する基板でも基板の向きを整合する必要が無く、しかも、上記切り欠きの有無に関係なく、基板を空転することなく回転保持できる基板の回転保持具を提供する。【構成】 水平回転自在に設けられた回転台1と、回転台1上に配置付設された複数の基板支持部3及び空転規制部4とにより回転式基板処理装置の基板回転保持具を構成する。上記各基板支持部3で円形ないし略円形の基板Wを回転台1の上面から離間させて水平に支持する。上記各空転規制部4に内接する内接円Rの中心Gが回転台1の回転中心Zから偏位するように、各空転規制部4を円形に配置し、各空転規制部4に上記基板Wの外周縁を当接させ、その偏位に伴う遠心作用により当該基板Wを回転台1と一体回転させる。

Claim (excerpt)：

円形ないし略円形の基板を水平回転し、基板の上面に処理液を供給する回転式基板処理装置において、円形ないし略円形の基板を載置する回転台と、回転台に設けられて、基板の外縁が当接することにより基板を回転台と一体に回転するよう規制する空転規制部とから成り、空転規制部を、回転台の回転中心から偏位した円形に沿って配備することを特徴とする回転式基板処理装置の基板回転保持具。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-188323
  
• 特開昭60-030140