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J-GLOBAL ID：200903055585587251

透明導電体の製造方法および透明導電性フイルム

Inventor： 榊原 義夫 ,  品川 幸雄 ,  椋木 康雄 ,  中村 卓
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998030210
Publication number (International publication number)：1999232940
Application date： Feb. 12, 1998
Publication date： Aug. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】低温(200°C以下)で透明導電性素材を任意のパターンで簡便に付与する方法を提供する。【解決手段】透明基体の表面特性を、化学的処理および/または光エネルギーを付与してパターニングし、該表面に導電性素材を含有する親水性液体または疎水性液体を付与してパターニングに対応した形状に導電性素材を形成することを特徴とする透明導電体の製造方法。

Claim (excerpt)：

透明基体の表面極性を、化学的処理および/または光エネルギーを付与することによってパターニングし、該表面に導電性素材を含有する親水性液体または疎水性液体を付与して該パターニングに対応した形状に導電性素材を形成することを特徴とする透明導電体の製造方法。

IPC (2)：

H01B 13/00 503 ,  H01B 5/14

FI (2)：

H01B 13/00 503 D ,  H01B 5/14 A