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J-GLOBAL ID：200903055597972177

投影露光装置

Inventor： 白石 直正
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993201649
Publication number (International publication number)：1995057992
Application date： Aug. 13, 1993
Publication date： Mar. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】 比較的接近した複数の孤立パターンに対しても転写忠実度を損なうことなく深い焦点深度で投影露光を行う。【構成】 投影光学系の瞳面(フーリエ変換面)又はこの近傍の面上を、半径r1 の円形の透過部FA、半径r1 〜r2 の輪帯状の透過部FB、及び半径r2 〜r3 の輪帯状の透過部FCに分割し、透過部FA及びFCを透過する光束と透過部FBを透過する光束との間の可干渉性を低減すると共に、透過部FAの光束と透過部FCの光束との間に(2m+1)π(mは整数)の位相差を与える干渉性低減部材CCMを設ける。半径r1,r2,r3 の間に所定の関係を持たせる。

Claim (excerpt)：

転写用のパターンが形成されたマスクを露光用の照明光で照明する照明手段と、前記照明光のもとで前記マスクのパターンの像を感光性の基板上に結像投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記投影光学系内の前記マスクのパターン形成面に対する光学的フーリエ変換面又はその近傍の結像光の通過面上の、前記投影光学系の光軸を中心とする前記投影光学系の開口数に相当する半径r<SB>3 </SB>の領域を、前記光軸を中心として半径r<SB></SB><SB>1 </SB>の第1の領域と、前記光軸を中心として半径がr<SB>1 </SB>からr<SB>2 </SB>までの輪帯状の第2の領域と、前記光軸を中心として半径がr<SB>2 </SB>からr<SB>3 </SB>までの輪帯状の第3の領域とに分割し(但し、r<SB>1 </SB><r<SB>2 </SB><r<SB>3</SB>)、前記第1の領域及び前記第3の領域に分布する結像光と前記第2の領域に分布する結像光との間の可干渉性を低減すると共に、前記第1の領域に分布する結像光と前記第3の領域に分布する結像光との間に(2m+1)πの位相差(mは整数)を与える干渉性低減部材を設け、前記半径r<SB>1 </SB>及びr<SB>2 </SB>を、前記半径r<SB>3 </SB>及び所定の係数α及びβを用いてそれぞれr<SB>1 </SB>=α・r<SB>3 </SB>、r<SB>2 </SB>=β・r<SB>3</SB>と表した場合、前記係数α及びβについてβ=0.85・α+0.58 且つ 0.2≦α≦0.4の関係が成立することを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G02F 1/1343

FI (2)：

H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527