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J-GLOBAL ID:200903055681510545

有機-無機ハイブリッド低融点ガラスおよびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西 義之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002203149
Publication number (International publication number):2004043242
Application date: Jul. 11, 2002
Publication date: Feb. 12, 2004
Summary:
【課題】転移点が100°C近傍又は100°C未満で、鉛やビスマスなどの環境に問題のある物質をガラス組成因子とせず、材料としての気密性、長期安定性や強度、さらには水によるアタックなどの問題がない、生産可能な材料を提供する。【解決手段】R3SiO0.5-R2SiO-MO-P2O5(但し、Rはメチル基又はエチル基、Mは2価の金属)系の有機-無機ハイブリッド低融点ガラス(但し、Rはメチル基又はエチル基、Mは2価金属)であり、トリアルキルクロロシランとリン酸、又はトリアルキルクロロシランとリン酸及び金属塩化物を水を使用することなしに加熱反応させることより製造される。【選択図】なし
Claim (excerpt):
R3SiO0.5-R2SiO-MO-P2O5系の有機-無機ハイブリッド低融点ガラス(但し、Rはメチル基又はエチル基、Mは2価金属)。
IPC (3):
C03C3/16 ,  C03C3/17 ,  C03C3/21
FI (3):
C03C3/16 ,  C03C3/17 ,  C03C3/21
F-Term (77):
4G062AA04 ,  4G062BB20 ,  4G062DA02 ,  4G062DB01 ,  4G062DB02 ,  4G062DC01 ,  4G062DD02 ,  4G062DE01 ,  4G062DE02 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062ED02 ,  4G062EE01 ,  4G062EE02 ,  4G062EF01 ,  4G062EF02 ,  4G062EG01 ,  4G062EG02 ,  4G062FA01 ,  4G062FA02 ,  4G062FA10 ,  4G062FB01 ,  4G062FB02 ,  4G062FC01 ,  4G062FC02 ,  4G062FD01 ,  4G062FD02 ,  4G062FE01 ,  4G062FE02 ,  4G062FF01 ,  4G062FF02 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062FL02 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH04 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH08 ,  4G062HH09 ,  4G062HH10 ,  4G062HH11 ,  4G062HH12 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ02 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062KK01 ,  4G062KK02 ,  4G062KK03 ,  4G062KK04 ,  4G062KK05 ,  4G062KK06 ,  4G062KK07 ,  4G062KK08 ,  4G062KK10 ,  4G062MM04 ,  4G062NN32 ,  4G062NN34
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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