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J-GLOBAL ID:200903055729312910
ガス供給時間選択方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
森本 義弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998259043
Publication number (International publication number):2000091326
Application date: Sep. 14, 1998
Publication date: Mar. 31, 2000
Summary:
【要約】【課題】 真空容器内の圧力を一定することによりエッチング側壁の荒れや成膜の荒れが殆ど発生しないようにする。【解決手段】 遷移工程実行時に真空容器内の圧力を真空計により測定し、それを次の遷移工程時間にフィードバックして真空容器内の圧力変動が±10%以下になるように遷移工程時間を(b)に示すように延長、あるいは(c)に示すように短縮し、これを繰り返すことによって、最適な遷移工程時間を選択して、真空容器内の圧力を一定にする。
Claim (excerpt):
真空容器内にガスを供給しつつ真空容器内を排気し、真空容器内にプラズマを発生させ、ガス組成、圧力、高周波電力などの制御パラメーターをエッチング中に複数回変化させて真空容器内の電極に載置された被処理物をエッチングするに際し、ガス供給切り換えの際の供給するガスが重なり合う遷移工程時間について、その遷移工程内の真空容器内の圧力を測定し、その圧力変動の結果をフィードバックすることにより、次遷移工程時の真空容器内の圧力が小さくなるように遷移工程時間長を変化させるガス供給時間選択方法。
IPC (5):
H01L 21/3065
, C23C 16/52
, C23F 4/00
, G05B 13/02
, H01L 21/205
FI (5):
H01L 21/302 A
, C23C 16/52
, C23F 4/00 A
, G05B 13/02 B
, H01L 21/205
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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半導体基盤の表面処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-206672
Applicant:サーフィステクノロジーシステムズリミテッド
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チャンバーへのガス供給方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-268689
Applicant:清原まさ子
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特開平2-216823
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