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J-GLOBAL ID：200903055733813010

ラジカル重合方法

Inventor： 後藤 宏文 ,  野中 克敏 ,  山崎 隆生 ,  安田 健二
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 奥山 尚男 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995232145
Publication number (International publication number)：1997077816
Application date： Sep. 11, 1995
Publication date： Mar. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】 狭い多分散性と優れた機械的特性を有するポリマーを得るためのラジカル重合方法を提供する。【解決手段】 ラジカル重合可能な不飽和モノマーをラジカル重合開始剤と下記ラジカル(I)の存在下に重合させるラジカル重合方法。【化1】(但し、R1 ,R2 ,R3 のうち少なくとも一つが水酸基であり、他は水素原子、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルキルカルボニルオキシ、シアノ、カルボキシ、アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換脂環式基、または置換もしくは非置換芳香族基から選ばれる。R4 ,R5 ,R6,R7 は炭素数1〜10のアルキル基、または芳香族置換アルキル基であり、同一であっても異なっていても良い。)

Claim (excerpt)：

ラジカル重合可能な不飽和モノマーをラジカル重合開始剤と下記ラジカル(I)の存在下に重合させることを特徴とするラジカル重合方法。【化1】(但し、R1 ,R2 ,R3 のうち少なくとも一つが水酸基であり、他は水素原子、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルキルカルボニルオキシ、シアノ、カルボキシ、アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換脂環式基、または置換もしくは非置換芳香族基から選ばれる。R4 ,R5 ,R6,R7 は炭素数1〜10のアルキル基、または芳香族置換アルキル基であり、同一であっても異なっていても良い。)

IPC (3)：

C08F 4/00 MFJ ,  C08F 12/00 MJT ,  C08F 20/12 MLY

FI (3)：

C08F 4/00 MFJ ,  C08F 12/00 MJT ,  C08F 20/12 MLY