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J-GLOBAL ID：200903055748527545

成膜装置

Inventor：
二川 正康

About 二川 正康


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (1)： 小池 隆彌
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998308546
Publication number (International publication number)：2000129442
Application date： Oct. 29, 1998
Publication date： May. 09, 2000
Summary：
【要約】【課題】 コンパクトでメンテナンスが容易な成膜装置を提供する。【解決手段】 ロード室1とアンロード室7、加熱室3と第3成膜室6、第1成膜室4と第2成膜室5がそれぞれ背中合わせになって1組となり、この3組が一列に連なって配置されており、列の1端である第1成膜室4と第2成膜室5には、ゲートバルブ2を介して真空回転室10が接続されている。保持具9に保持された成膜基板8は、第1成膜室4から回転室10に搬送され、搬送方向を180度転回し、第2成膜室5に搬入される。
Claim (excerpt)：
基板に対して真空中で成膜処理を施す成膜室やロード室といった複数の処理室と、前記各処理室を隔離するゲートバルブと、前記基板を保持した保持具を前記処理室の間を搬送する搬送系とから構成される成膜装置であって、前記処理室を並列に配設したものを一単位とする複合処理室を複数単位直列に配置し、その両端に前記保持具を回転する回転室または回転装置をそれぞれ配置したことを特徴とする成膜装置。
IPC (2)：
C23C 14/56 ,  H01L 21/68
FI (2)：
C23C 14/56 G ,  H01L 21/68 A
F-Term (13)：
4K029JA05 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA12 ,  5F031FA22 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031MA06 ,  5F031MA29 ,  5F031NA09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • プラズマCVD装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-129497   Applicant：三菱重工業株式会社
  • インライン式成膜装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-099648   Applicant：アネルバ株式会社

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