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J-GLOBAL ID：200903055773671340
プラズマイオン化質量分析装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
岡田 和秀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992107573
Publication number (International publication number)：1993303956
Application date： Apr. 27, 1992
Publication date： Nov. 16, 1993
Summary：
【要約】【目的】 プラズマイオン化質量分析装置において、バックグラウンドの成因となる光が質量分析計に入射するのを防ぐとともに、イオンの導入効率を高め、これによって、従来よりもS/N比を向上させる。【構成】 レンズ系10を構成するレンズ電極10aに、イオン収束用の電圧を印加する電圧印加手段15を接続し、レンズ系10内のイオン通過軸上には、プラズマトーチ1からの光を遮断する遮光板14を配置し、この遮光板14にイオン軌道変更電圧印加手段16を接続し、この電圧印加手段16によって遮光板14の周囲に電界分布を発生させ、この電界分布によってレンズ系10に入射してくるイオンをこの遮光板14の周囲を迂回して進行させる。
Claim (excerpt)：
プラズマトーチで発生されるイオンを質量分析計に向けて引き出すイオン引出電極と、このイオン引出電極で引き出されたイオンを質量分析計の入口に収束させる複数のレンズ電極からなるレンズ系とを有し、このイオン引き出し電極とレンズ系とが、プラズマトーチと質量分析計との間にそれぞれのイオン通過軸を共に実質的に一致させた状態でこの記載順序で順次に設けられており、かつ、このレンズ系を構成する各レンズ電極には、イオン収束用の電圧を印加するイオン収束用電圧印加手段が接続され、また、レンズ系内の前記イオン通過軸上には、プラズマトーチからの光を遮断する遮光板が配置されているプラズマイオン化質量分析装置において、前記遮光板に対して、前記レンズ系に入射してくるイオンをこの遮光板の周囲を迂回して進行させる電界分布を当該遮光板の周囲に発生させるイオン軌道変更電圧を印加するイオン軌道変更電圧印加手段を設けたことを特徴とするプラズマイオン化質量分析装置。
Patent cited by the Patent：
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