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J-GLOBAL ID：200903055784099967

真空処理装置

Inventor： 出口 洋一 ,  川上 聡
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993166186
Publication number (International publication number)：1994349938
Application date： Jun. 11, 1993
Publication date： Dec. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明の目的は、被処理体と静電チャックシートとの間の熱伝導度を高めることにより被処理体の温度分布差を抑制すると共にガスの漏洩を防止し、被処理体を精度良く処理し得る真空処理装置を提供することにある。【構成】 気密に構成された処理室1と、この処理室1内に設けられたサセプタ9と、このサセプタ9上に固着され被処理体5を静電気力にて吸着保持する静電チャック機構16の静電チャックシート17と、この静電チャックシート17の前記被処理体5を吸着する面に複数設けられたガス供給孔28と、前記静電チャックシート17の前記被処理体5を吸着する面に形成され前記ガス供給孔28より供給されたガスを前記静電チャックシート17と前記被処理体5との間で前記ガスを分散するガス分散溝部30と、前記静電チャックシート17の前記被処理体5を吸着する面の前記ガス分散溝30の外周に設けられ前記ガスを回収するガス回収溝部33と、このガス回収溝内に設けられ前記ガスを排気する排気孔34とを具備し構成したものである。

Claim (excerpt)：

気密に構成された処理室と、この処理室内に設けられたサセプタと、このサセプタ上に固着され被処理体を静電気力にて吸着保持する静電チャック機構の静電チャックシートと、この静電チャックシートの前記被処理体を吸着する面に複数設けられたガス供給孔と、前記静電チャックシートの前記被処理体を吸着する面に形成され前記ガス供給孔より供給されたガスを前記静電チャックシートと前記被処理体との間で前記ガスを分散するガス分散溝部と、前記静電チャックシートの前記被処理体を吸着する面の前記ガス分散溝の外周に設けられ前記ガスを回収するガス回収溝部と、このガス回収溝内に設けられ前記ガスを排気する排気孔とを具備したことを特徴とする真空処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/324 ,  H01L 21/302