気液処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：藤巻正憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996236969
Publication number (International publication number)：1998080627
Application date： Sep. 06, 1996
Publication date： Mar. 31, 1998
Summary：

【要約】【課題】製造コストが低いと共に、気体と液体との接触効率が高く、反応効率も高い気液処理装置を提供する。【解決手段】静止型混合器30は、流体が通流する通路管と、この通路管内に配設され通路管中心部が欠落した螺旋状の羽根体とを有し、その長手方向を実質的に垂直にして配置されている。この静止型混合器内に液体及び気体を供給し、配管36を介して静止型混合器の底部から流体をその上部に返戻して流体を循環させる。前記流体は静止型混合器30内で大気圧よりも高い加圧状態に保持される。

Claim (excerpt)：

長手方向を実質的に垂直にして配置された1又は複数個の静止型混合器と、前記通路管内に液体を供給する液体供給手段と、前記通路管内に気体を供給する気体供給手段と、を有し、前記流体は前記静止型混合器内で大気圧よりも高い加圧状態にされることを特徴とする気液処理装置。

IPC (5)：

B01F 5/00 , B01F 1/00 , B01F 3/04 , B01J 10/00 , C02F 3/20

FI (5)：

B01F 5/00 F , B01F 1/00 A , B01F 3/04 Z , B01J 10/00 Z , C02F 3/20 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

物質移動装置及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-360987 Applicant：小嶋久夫

Return to Previous Page