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J-GLOBAL ID：200903055806300971

光源装置

Inventor： 佐久間 純
Applicant, Patent owner： 株式会社ウシオ総合技術研究所
Agent (1)： 長澤 俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998347097
Publication number (International publication number)：2000171843
Application date： Dec. 07, 1998
Publication date： Jun. 23, 2000
Summary：

【要約】【課題】 波長がほぼ248nmのコヒーレント光を得る光源装置において、より高出力なコヒーレント光を得ることができるようにすること。【解決手段】 Nd:YAGレーザ光源L1から放出される基本レーザ光を非線形光学結晶C1に入射して第2高調波を発生させ、第1の和周波発生用非線形光学結晶C3に導く。一方、Nd:YAGもしくはNd:YLFレーザ光源L2から放出されるレーザ光の第2高調波を励起光としてTi:SAレーザ光源L3を発振させる。第1の和周波発生用非線形光学結晶C3は、上記第2高調波とTi:SAレーザ光源L3が放出するレーザ光からその和周波光を発生する。第2の和周波発生用非線形光学結晶C4は、該和周波光と基本レーザ光からその和周波光である波長248.4nmの光を発生する。なお、上記Ti:SAレーザ光源に換え光パラメトリック発振器を使用してもよい。

Claim (excerpt)：

波長が1000nm〜1100nmの基本レーザ光を発生する固体レーザ光源と、この基本レーザ光の第2高調波を発生する手段と、波長可変レーザ光源と、上記第2高調波と、上記波長可変レーザ光源から放出されるコヒーレント光とから第1の和周波光を発生させる第1の和周波発生手段と、上記第1の和周波光と、上記基本レーザ光とから波長が231〜251nmの第2の和周波光を発生させる第2の和周波発生手段とから構成される光源装置。

IPC (3)：

G02F 1/37 ,  H01S 3/108 ,  G02F 1/39

FI (3)：

G02F 1/37 ,  H01S 3/108 ,  G02F 1/39

F-Term (17)：

2K002AA07 ,  2K002AB12 ,  2K002AB27 ,  2K002CA04 ,  2K002GA10 ,  2K002HA20 ,  2K002HA21 ,  5F072AB02 ,  5F072JJ04 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK11 ,  5F072KK12 ,  5F072QQ02 ,  5F072QQ03 ,  5F072RR05 ,  5F072YY06 ,  5F072YY09