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J-GLOBAL ID：200903055829694128

高度浄水処理方法

Inventor： 大西 真人 ,  宮森 啓子
Applicant, Patent owner： 日立プラント建設株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993172401
Publication number (International publication number)：1995124593
Application date： Jun. 18, 1993
Publication date： May. 16, 1995
Summary：

【要約】【目的】 塩素系及び臭素系トリハロメタンの両者を効率よく除去しうる高度浄水処理方法を提供すること。【構成】 凝集沈殿処理と砂濾過処理と塩素消毒処理から構成される浄水処理プロセスに、オゾン処理と粒状活性炭処理を付加した高度浄水処理方法において、実原水中の塩素イオン濃度を塩素イオン濃度モニタ8で連続的にモニタリングし、その濃度が高い場合に、粒状活性炭処理を生物活性炭処理槽3と粒状活性炭吸着処理槽7で二工程で行うことを特徴とする高度浄水処理方法である。

Claim (excerpt)：

凝集沈殿処理と砂濾過処理と塩素消毒処理から構成される浄水処理プロセスに、オゾン処理と粒状活性炭処理を付加した高度浄水処理方法において、実原水中の塩素イオン濃度、臭素イオン濃度及び電導度のうちの少なくとも一つを連続的にモニタリングし、その濃度が高い場合に、粒状活性炭処理を生物活性炭処理と粒状活性炭吸着処理との二工程で行うことを特徴とする高度浄水処理方法。

IPC (12)：

C02F 9/00 501 ,  B01D 21/01 ,  B01D 24/12 ,  B01D 24/22 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/78 ,  C02F 3/06 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504