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J-GLOBAL ID：200903055838467509
面位置設定装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993228707
Publication number (International publication number)：1995086136
Application date： Sep. 14, 1993
Publication date： Mar. 31, 1995
Summary：
【要約】【目的】 ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置において、露光領域の走査方向の幅が変化しても、最適なオートフォーカス及びオートレベリング制御を行う。【構成】 ウエハの露光面でスリット状の露光領域16A又は16を囲む領域34内のフォーカス位置ΔZ(曲面46又は47のフォーカス位置)を計測する。狭い露光領域16Aの場合には、露光領域16A内の部分曲面46aのフォーカス位置のデータのみを用いて部分曲面46aの近似平面を算出し、通常の露光領域16の場合には、露光領域16内の部分曲面47aのフォーカス位置のデータのみを用いて部分曲面47aの近似平面を算出し、それら近似平面を投影光学系による結像面に合致させる。
Claim (excerpt)：
所定形状の可変の照明領域に対して転写用のパターンが形成されたマスクを所定の方向に走査するマスクステージと、該マスクステージに同期して感光性の基板を所定の方向に走査する基板ステージとを有し、前記マスクのパターンを逐次前記基板上に露光する走査型の露光装置に設けられ、前記基板の露光面を所定の基準面に合わせ込むための装置であって、前記基板ステージに設けられ前記基板の露光面の所定の近似平面を前記所定の基準面に合わせ込む面設定手段と、前記マスクのパターンの露光領域及び該露光領域に対して走査方向に手前側の領域よりなる計測領域内の複数の計測点で前記基板の露光面の高さを検出する高さ検出手段と、該高さ検出手段により検出された前記複数の計測点の高さの内から、前記可変の照明領域に応じて定まる前記マスクのパターンの可変の露光領域内での前記基板の露光面の高さの情報を用いて、前記基板の露光面の近似平面を求める近似平面演算手段と、を有し、該近似平面演算手段で求められた近似平面を前記面設定手段により前記所定の基準面に合わせ込むことを特徴とする面位置設定装置。
IPC (2)：
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