Pat

J-GLOBAL ID：200903055848763602

粘着性フォトレジスト組成物

Inventor： 坂口 徳久 ,  村上 和夫 ,  柳田 泰夫
Applicant, Patent owner： 大日本インキ化学工業株式会社
Agent (1)： 高橋 勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992096497
Publication number (International publication number)：1993297587
Application date： Apr. 16, 1992
Publication date： Nov. 12, 1993
Summary：

【要約】【構成】 マスクパタ-ンを固着するに足る塗膜表面粘着性を有し、かつ、活性光線照射によって現像除去可能な非画像部と非粘着性の硬化画像部とを形成する粘着性フォトレジスト組成物であって、(1)アクリル又はメタクリル末端基含有アクリルオリゴマ-と、(2)有機重合体結合体とを含有する粘着性フォトレジスト組成物。【効果】 本発明の組成物は、薄膜単層コ-ティングができ、かつ、その表面に金属マスク等を転写・固着し得る機能を有するフォトレジスト材料であり、ステッパ-を用いずに一括露光方式で高解像度のレジストパタ-ン画像を形成することができる。本発明の組成物によれば、大面積回路素子基板を簡便に生産性良く製造することができる。

Claim (excerpt)：

マスクパタ-ンを固着するに足る塗膜表面粘着性を有し、かつ、活性光線照射によって現像除去可能な非画像部と非粘着性の硬化画像部とを形成する粘着性フォトレジスト組成物であって、(1)アクリル又はメタクリル末端基含有アクリルオリゴマ-と(2)有機重合体結合体とを含有することを特徴とする粘着性フォトレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/027 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027