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J-GLOBAL ID：200903055861667124

呼吸同調型酸素供給装置

Inventor： 高橋 正男 ,  小池 和夫 ,  久末 泰史 ,  高野 英一
Applicant, Patent owner： 株式会社群馬コイケ ,  株式会社小池メディカル
Agent (1)： 中川 周吉 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000346512
Publication number (International publication number)：2002143306
Application date： Nov. 14, 2000
Publication date： May. 21, 2002
Summary：

【要約】【課題】患者に供給すべき酸素流量を、患者の呼吸に同調させて酸素を供給する系と患者の呼吸に関わらず連続的に酸素を供給する系とを同時に設定することで、連続供給時の酸素の無駄を減少させる。【解決手段】同調型供給装置Aは、患者の呼吸を検出するセンサー4と、患者の呼吸に同調して開放する電磁弁8を配置した同調系9(第1の配管系)と、同調系9と並行して構成され外部操作に応じて開閉する開閉弁11を有する非常系(第2の配管系)10と、センサー4からの信号に応じて電磁弁8の開閉を制御する制御部13と、同調系9,非常系10を流通する酸素の流量を設定する流量設定ダイヤル5を有し、該流量設定ダイヤル5と同軸にロータリースイッチ6,流量調整器7を設ける。

Claim (excerpt)：

患者の呼吸を検出するセンサーと、電磁弁を有し該電磁弁の開放に応じて酸素を流通させる第1の配管系と、前記第1の配管系と並行して構成され外部からの操作に応じて開閉する弁を有し該弁の開放に応じて酸素を流通させる第2の配管系と、前記センサーからの信号に応じて前記第1の配管系に設けた電磁弁の開閉を制御する制御部と、前記第1の配管系及び第2の配管系を流通する酸素の流量を設定する流量設定部と、を有することを特徴とする呼吸同調型酸素供給装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ガス供給制御装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-022760   Applicant：日本特殊陶業株式会社
• 特開昭62-140026
  
• 特開昭62-140026