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J-GLOBAL ID:200903055865925691

AlN単結晶の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 広瀬 章一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003315653
Publication number (International publication number):2005082439
Application date: Sep. 08, 2003
Publication date: Mar. 31, 2005
Summary:
【課題】 比較的大きなAlN単結晶を簡易かつ低コストで製造し得るAlN単結晶の製造方法を提供する。【解決手段】 成分aがCr、Mn、Fe、Co、CuおよびNiから選択された1種以上の金属、成分bがSc、Ti、V、Y、ZrおよびNbから選択された1種以上の金属、成分cがAl、成分dがSiであるabcd系合金であって、成分aのモル濃度Ca、成分bのモル濃度Cb、成分cのモル濃度Ccおよび成分dのモル濃度Cdが、 0.01≦Cb/Ca≦0.1 、0.13≦Cd/Ca≦0.32、0.2 ≦Cc/(Ca+Cb)≦1の関係を満たす組成を有するabcd系合金の融液4を窒素雰囲気下で調製する。そして、窒素雰囲気下に保持したまま、このabcd系合金の融液4を冷却するか、および/またはそれから前記成分aとbの少なくともいずれかを蒸発させることによって、AlN単結晶をSiC単結晶基板2の上に晶出させる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
成分aがCr、Mn、Fe、Co、CuおよびNiから選択された1種以上の金属、成分bがSc、Ti、V、Y、ZrおよびNbから選択された1種以上の金属、成分cがAl、成分dがSiであるabcd系合金であって、成分aのモル濃度Ca、成分bのモル濃度Cb、成分cのモル濃度Ccおよび成分dのモル濃度Cdが、 0.01≦Cb/Ca≦0.1 、0.13≦Cd/Ca≦0.32、0.2 ≦Cc/(Ca+Cb)≦1 の関係を満たす組成を有するabcd系合金の融液を窒素雰囲気下で調製し、窒素雰囲気を保持したまま、前記abcd系合金の融液を冷却するか、および/またはそれから前記成分aとbの少なくともいずれかを蒸発させることによって、AlN単結晶をSiC単結晶基板上にエピタキシャルに晶出させることを特徴とする、AlN単結晶の製造方法。
IPC (2):
C30B29/38 ,  C30B19/02
FI (2):
C30B29/38 C ,  C30B19/02
F-Term (14):
4G077AA02 ,  4G077BE08 ,  4G077CG01 ,  4G077CG06 ,  4G077EA01 ,  4G077EA06 ,  4G077EC02 ,  4G077ED06 ,  4G077QA01 ,  4G077QA12 ,  4G077QA26 ,  4G077QA34 ,  4G077QA38 ,  4G077QA71
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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