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J-GLOBAL ID：200903055872270188

洗浄装置及び洗浄方法

Inventor： 宮脇 守
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996079041
Publication number (International publication number)：1997270412
Application date： Apr. 01, 1996
Publication date： Oct. 14, 1997
Summary：

【要約】【課題】 サブミクロンオーダーの微細加工が必要な半導体デバイスの作製工程に適した洗浄方法とその為の装置を提供すること。基板であるウエハと基板保持部材であるチャックとの接触部による洗浄液のはね返りや逆流により汚染物等の異物をウエハ表面上に残さない洗浄方法とその為の装置を提供すること。【解決手段】 洗浄室内において基板を保持するための基板保持部材と、該基板を回転させる回転手段と、該基板上に洗浄液を滴下する為のノズルと、を有する基板の洗浄装置において、該基板保持部材の該基板の側面と接触部分に吸引口が設けられていることを特徴とする。回転する基板上に洗浄液を供給して該基板を洗浄する洗浄方法において、該基板を保持する部分から吸引を行いながら該基板を回転させるとともに該洗浄液を供給することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

洗浄室内において基板を保持するための基板保持部材と、該基板を回転させる回転手段と、該基板上に洗浄液を供給する為のノズルと、を有する基板の洗浄装置において、該基板保持部材の該基板の側面と接触部分近傍に吸引口が設けられていることを特徴とする洗浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/68

FI (3)：

H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/68 N