Pat

J-GLOBAL ID：200903055872994801

下水処理場、その計測装置およびその支援装置

Inventor： 堤 正 彦 ,  金 子 政 雄 ,  古 部 正三郎 ,  野 口 和 彦
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997215351
Publication number (International publication number)：1999057780
Application date： Aug. 08, 1997
Publication date： Mar. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】 下水処理場における処理水の各種濃度を精度良く求めることができる計測装置を提供する。【解決手段】 下水処理場に計測装置66が設置されており、この計測装置66は下水処理場の処理水をろ過する限外ろ過膜モジュール7と、ろ過膜モジュール7に接続された測定槽40とを備えている。測定槽40には、アンモニアイオン濃度計41、全窒素濃度計42、およびpH計43が各々設置されている。測定槽40には、pH調整を行なうための水酸化ナトリウム溶液貯水槽45と、濃度計のキャリブレーションを行なう標準液槽46が接続されている。

Claim (excerpt)：

嫌気部と、曝気装置を有する好気部とを有する反応タンクと、沈殿タンクとを備え、沈殿タンクの底部と反応タンクの流入側を返送ポンプを有する返送汚泥管で接続した脱窒素、脱リン型下水処理場に設置された計測装置において、沈殿タンクからの処理水を採水する採水装置と、採水装置で採水された処理水を貯留する測定槽と、測定槽内に設けられるとともに各種イオン濃度を測定するイオン濃度計と、測定槽内のpHを調整するpH調整装置と、イオン濃度計をキャリブレーションするため標準物質を測定槽内に供給する標準物質供給装置と、を備えたことを特徴とする下水処理場の計測装置。

IPC (4)：

C02F 3/34 101 ,  G01N 1/12 ,  G01N 33/18 101 ,  G01N 33/18 106

FI (4)：

C02F 3/34 101 C ,  G01N 1/12 A ,  G01N 33/18 101 ,  G01N 33/18 106 Z