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J-GLOBAL ID：200903055900534560

マイクロパターン化した表面用の装置および方法

Inventor： ピーター・ビー・ムモラ
Applicant, Patent owner： ヒューズ・エアクラフト・カンパニー
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993008642
Publication number (International publication number)：1993259026
Application date： Jan. 21, 1993
Publication date： Oct. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、電子的に発生されたマスクパターンによりマスクプレートを必要とせずにマイクロリソグラフを実行する手段を得ることを目的する。【構成】 陰極線管30と液晶光バルブ26と両者を結合する光ファイバフェースプレート28とよりなる反射パターンを発生する手段と、アルゴンレーザ16の放射線の反射パターンの放射された画像により放射線感応面12を照射する手段と、放射された反射パターン画像が放射線感応面と適切に整列され、また放射線感応面の位置が放射された反射パターン画像に関して移動した場合、発生された反射パターンが移動にしたがって変化するように放射された反射パターン画像が入射した放射線感応面の位置を決定するコンピュータ50とを具備していることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

放射線に対して感応性である性質を有している表面をマイクロパターン化する装置において、反射パターンを発生する手段と、前記反射パターンの放射された画像により前記放射線感応面を照射する手段と、前記放射された反射パターン画像が前記放射線感応面と適切に整列されるように、および前記放射線感応面の位置が前記放射された反射パターン画像に関して移動した場合、前記発生された反射パターンが前記移動にしたがって変化するように前記放射された反射パターン画像が入射した前記放射線感応面の位置を決定する手段とを具備している装置。

FI (2)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭64-010625
  
• 特開平3-201423
  
• 特公昭49-012052