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J-GLOBAL ID:200903055919597857

磁気トンネル接合センサ用の低モ-メント/高飽和保磁力ピン層

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 坂口 博 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999227028
Publication number (International publication number):2000067418
Application date: Aug. 11, 1999
Publication date: Mar. 03, 2000
Summary:
【要約】【課題】 高飽和保磁力磁性体を使用して逆平行(AP)ピンMTJセンサの磁化方向を固定する、改良型の磁気抵抗トンネル接合(MTJ)センサを提供すること。【解決手段】 磁気トンネル接合(MTJ)装置は、磁気ディスク・ドライブ内の磁界センサとして、または 磁気ランダム・アクセス(MRAM)アレイ内のメモリ・セルとして使用可能である。このMTJ装置は、第1の強磁性層、第2の強磁性層、および第1の強磁性層と第2の強磁性層の間に配置された逆平行結合(APC)層を含む強磁性逆平行(AP)ピン層と;強磁性フリー層と;APピン層の第1の強磁性層と強磁性フリー層の間に配置された絶縁トンネル障壁層とを有する。
Claim (excerpt):
逆平行(AP)ピン層と、強磁性体のフリー層と、トンネル障壁層とを含み、前記逆平行(AP)ピン層が、第1の飽和保磁力を有する磁性体から作られた第1の強磁性層と、前記第1の飽和保磁力よりも大きな絶対値の第2の飽和保磁力を有する磁性体から作られ、前記APピン層の磁化方向を固定する第2の強磁性層と、前記第1の強磁性層と前記第2の強磁性層の間に配置された逆平行結合(APC)層とを含み、前記トンネル障壁層が、前記第1の強磁性層と前記フリー層の間に配置される、磁気トンネル接合(MTJ)センサ。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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