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J-GLOBAL ID：200903055944903199

MRI装置

Inventor：
後藤 隆男

About 後藤 隆男


Applicant, Patent owner：
ジーイー横河メディカルシステム株式会社

About ジーイー横河メディカルシステム株式会社


Agent (1)： 有近 紳志郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995242857
Publication number (International publication number)：1996322817
Application date： Sep. 21, 1995
Publication date： Dec. 10, 1996
Summary：
【要約】【課題】 位相エンコード勾配に起因する渦電流や残留磁化の影響によるイメージの画質の劣化を防止する。【解決手段】 RFパルスP1を送信し、ワープ軸に位相エンコード勾配gy(i)を印加し、リード軸にリード勾配rrを印加しながらNMR信号を受信し、その後、ワープ軸にリワインド勾配gyr(i)’を印加する。このリワインド勾配gyr(i)’は、“(位相エンコード勾配gy(i)と時間積分値が等しく逆極性の基本成分)+(位相エンコード勾配gy(i)に起因する渦電流または残留磁化の影響を補正するワープ軸補正成分)”とする。【効果】 永久磁石を用いたMRI装置でイメージの画質を改善できる。
Claim (excerpt)：
RFパルス送信手段と,勾配磁場印加手段と,NMR信号受信手段とを備えたMRI装置において、前記RFパルス送信手段によりRFパルスを送信し、前記勾配磁場印加手段により位相エンコード勾配をワープ軸に印加し、前記NMR信号受信手段によりNMR信号を受信した後、前記勾配磁場印加手段により前記位相エンコード勾配と時間積分値が等しく逆極性の基本成分に前記位相エンコード勾配に起因する渦電流または残留磁化の影響を補正するワープ軸補正成分を加えたリワインド勾配をワープ軸に印加するか、又は、前記基本成分に相当するリワインド勾配および前記ワープ軸補正成分に相当する補助リワインド勾配をワープ軸に印加することを特徴とするMRI装置。
IPC (2)：
A61B 5/055 ,  G01N 33/48
FI (2)：
A61B 5/05 312 ,  G01N 24/08 510 Y
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • MRI装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-033159   Applicant：ジーイー横河メディカルシステム株式会社
  • 磁気共鳴画像化における渦電流補償
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-265018   Applicant：フィリップスエレクトロニクスエヌベー
  • 磁気共鳴画像化方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-185589   Applicant：フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ
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