CVD装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：樺澤襄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992176969
Publication number (International publication number)：1994020954
Application date： Jul. 03, 1992
Publication date： Jan. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】コンパクトで、かつ、温度制御を容易にできるCVD装置を提供する。【構成】ガラス基板Bを搬入する基板搬入部1、予備加熱する予備加熱部2、化学気相成長処理を行なうCVD部3、冷却する冷却部4および搬出する基板搬出部5を直線的に配設する。金属製のメッシュのベルトコンベア6の往路により順次搬送する。予備加熱部2に、順次温度を高く設定したホットプレート11a ,11b ,11c および赤外線ランプ12a ,12b ,12c を、順次ベルトコンベア6に沿って配設する。冷却部4に、順次温度を低く設定した冷却プレート13a ,13b ,13c を配設する。ホットプレート11a ,11b ,11c 、冷却プレート13a ,13b ,13c 上を搬送するガラス基板Bの搬送速度、ガラス基板Bの滞留時間を個別に設定し、100°C/分に設定した温度勾配で加熱、冷却する。

Claim (excerpt)：

被成膜物を搬入する搬入部と、この搬入された被成膜物を加熱する予備加熱部と、前記被成膜物を化学気相成長させるCVD部と、前記被成膜物を冷却する冷却部と、前記被成膜物を搬出する搬出部とを備えたCVD装置において、前記予備加熱部および前記冷却部の少なくともいずれか一方は、順次温度の異なる複数のプレートにて構成されたことを特徴とするCVD装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

LCDガラス基板用常圧CVD装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-298548 Applicant：東芝機械株式会社
液晶基板用ガラス表面への保護膜形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-108955 Applicant：住友精密工業株式会社
常圧CVD装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-345638 Applicant：株式会社東芝, 東芝電子エンジニアリング株式会社

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