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J-GLOBAL ID:200903056002601460

液晶表示装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 梅田 勝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996169099
Publication number (International publication number):1998020331
Application date: Jun. 28, 1996
Publication date: Jan. 23, 1998
Summary:
【要約】【課題】 コンタクトホール下部の層の厚みを、層間絶縁膜に対して最適化することにより、高い開口率および優れた表示品位を有する液晶表示装置を提供する。【解決手段】 透明絶縁基板11上に、ゲート信号配線14および付加容量共通配線15が3000Åの膜厚で形成されており、それらの上を覆ってゲート絶縁膜20が3000Åの膜厚で形成されている。また、付加容量共通配線15上部には、コンタクトホール17の形状を改善するための絶縁層29および半導体層30がそれぞれ、3000Å、1000Åの膜厚で形成されている。さらに、付加容量共通配線15、絶縁層29、半導体層30を覆うようにして、TFT13のドレイン電極と接続された接続電極28が1000Åの膜厚で形成されている。
Claim (excerpt):
基板上に、ゲート信号配線とデータ信号配線とが互いに交差するように設けられ、前記ゲート信号配線とデータ信号配線の交差部近傍にスイッチング素子が設けられ、該スイッチング素子のゲート電極に前記ゲート信号配線が接続され、該ゲート電極以外の一方電極に前記データ信号配線、他方電極に接続電極が形成され、前記スイッチング素子、ゲート信号配線、ソース信号配線の上部に所定の厚みを有する層間絶縁膜が形成され、該層間絶縁膜の上部に前記画素電極が形成され、該画素電極が前記層間絶縁膜を貫くコンタクトホールを介して前記スイッチング素子と接続されている液晶表示装置において、前記コンタクトホール底面から前記基板表面までの層を厚く形成することにより、前記コンタクトホールの開口面の幅を前記コンタクトホール下部の配線の幅に対して狭く形成したことを特徴とする液晶表示装置。

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