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J-GLOBAL ID：200903056008865079

疎水性エアロゲルの製造方法

Inventor： 横川 弘 ,  横山 勝 ,  高濱 孝一 ,  上垣百合子
Applicant, Patent owner： 松下電工株式会社
Agent (1)： 松本 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992255085
Publication number (International publication number)：1993279011
Application date： Sep. 24, 1992
Publication date： Oct. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 水分等を吸着しにくく、経時的な劣化の少ない、光透過性を有する多孔体を得ることができる疎水性エアロゲルの製造方法を提供する。【構成】 骨格が(SiO2)m (mは正の整数)で、かつ、シラノール基を有するポリマーを、前記シラノール基に対して反応可能な官能基と疎水基を併せ持つ疎水化処理剤と反応させて疎水化処理することにより得られた変性ポリマーのゲルを超臨界乾燥させて疎水性エアロゲルを得るようにする。

Claim (excerpt)：

骨格が(SiO2)m (mは正の整数)で、かつ、シラノール基を有するポリマーを、前記シラノール基に対して反応可能な官能基と疎水基を併せ持つ疎水化処理剤と反応させて疎水化処理することにより得られた変性ポリマーのゲルを超臨界乾燥させて疎水性エアロゲルを得るようにする疎水性エアロゲルの製造方法。