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J-GLOBAL ID：200903056013927465

薄膜構造体を有する製品及び薄膜構造体形成方法

Inventor： ジャクソン エイチ.ホ ,  ロバート アール.アレン ,  ツ-チン チュアング
Applicant, Patent owner： ゼロックス コーポレイション
Agent (1)： 中島 淳 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995124287
Publication number (International publication number)：1995302784
Application date： Apr. 24, 1995
Publication date： Nov. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】 局所エッチング速度が変化する層を異なるようにエッチングすることによって達成されるテーパー付き形状部を有する薄膜構造体を形成する。【構成】 蒸着して層の厚さ方向で変化するエッチング剤に対する局所エッチング速度を有する層を形成し、リトグラフィを用いて形状部の形状を有する層の部分を被膜するマスク材料のパターンを形成し、エッチングしてマスク材料のパターンに被覆されなかった領域を除去し、エッチング後、層の被膜された部分がエッジを有する形状部を形成し、エッチング剤によりこのエッジをエッチングしてエッジの側壁プロファイルがテーパー付けされ、次いでマスク材料のパターンが除去される。

Claim (excerpt)：

表面を有する基板と、前記基板の表面に形成された薄膜構造体と、を有する製品であって、前記薄膜構造体が、前記基板近くの第1の側と前記基板の表面から離れた第2の側とを有する形状部を備え、前記形状部が前記第1の側から前記第2の側へ厚さ方向へ延出しているエッジを有し、前記形状部が前記厚さ方向の位置に従って変化するエッチング剤に対する局所エッチング速度を有し、前記エッジが前記エッチング剤を用いてエッチング作用によってテーパー付けされた側壁プロファイルを有する、ことよりなる薄膜構造体を有する製品。

IPC (3)：

H01L 21/306 ,  B05D 7/00 ,  H01L 21/203

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭53-034484
  
• 特開平4-024924
  
• 特開平1-151236
  
• 特開昭61-004233