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J-GLOBAL ID：200903056022887530

X線リソグラフィ用マスク

Inventor： 奥山 浩
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 深見 久郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996070456
Publication number (International publication number)：1997260258
Application date： Mar. 26, 1996
Publication date： Oct. 03, 1997
Summary：

【要約】【課題】 X線リソグラフィにおいて、そのレジスト深さに分布を有するレジストパターンを従来よりも容易に製造することができるX線リソグラフィ用マスクを提供する。【解決手段】 X線リソグラフィ用マスクは、支持枠12と、支持枠12上に設けられたX線が非常に透過しやすいX線透過膜13と、X線透過膜13上に設けられたX線吸収体14を含む。X線吸収体14は、X線11の照射方向に垂直な面において形成すべきレジスト材料16の所定のパターンに応じたパターンを有するとともに、X線11の照射方向に平行な方向においてもその厚みについて所定の分布を有する。この厚みの分布により、レジストに対するX線露光深さが制御される。

Claim (excerpt)：

X線透過部と前記X線透過部に保持されるX線吸収体とを備え、X線リソグラフィにおいてレジスト材料に所定のパターンを転写するマスクであって、X線照射の方向に垂直な面において前記所定のパターンに応じたパターンを有する前記X線吸収体が、前記X線照射の方向に平行な方向においてもその厚みについて所定の分布を有しており、前記厚みの分布に応じて、前記レジスト材料へのX線露光量およびX線露光深さに分布を生じさせることを特徴とする、X線リソグラフィ用マスク。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G21K 5/02

FI (3)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G21K 5/02 X

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-032524
  
• 特開昭59-172723
  
• 特開昭63-018351