排ガスの処理方法及び装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：池浦敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995176695
Publication number (International publication number)：1997000865
Application date： Jun. 20, 1995
Publication date： Jan. 07, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】粉塵と亜硫酸ガスを含む排ガスの処理方法及び装置において、湿式電気集塵装置の使用を必要としない方法を提供する。【構成】排ガスを冷却除塵塔31に導入し、噴霧状液滴粒子と接触させた後、冷却除塵塔から抜出し、第1隔板2と第2隔板3とによって第1室5と第2室6と第3室7とに区画された密閉槽の第2室に供給し、排ガス分散管9を通して第1室の吸収液中に吹込み、第1室の上部空間に存在する排ガスを排ガス上昇筒10内を上昇させ、第3室に上昇してきた排ガスを、その先端から洗浄液が液幕状に流下している排ガス衝突板26に衝突させ、液幕と接触させ、ついで排ガスを第3室に配設され排ガス出口11から排出させ、ミストエリミネータ12に導入し、排ガス中の液滴粒子を除去した後、大気中へ放出させる。

Claim (excerpt)：

粉塵と亜硫酸ガスを含む排ガスを処理する方法において、(i)排ガスを冷却除塵塔に導入し、噴霧状液滴粒子と接触させた後、その冷却除塵塔から抜出すこと、(ii)冷却除塵塔から抜出された排ガスを、第1隔板とその上方に位置する第2隔板とによってその内部が第1室と第1室の上方に隣接する第2室と第2室の上方に隣接する第3室とに区画された密閉槽におけるその第2室に供給すること、(iii)第2室に供給された排ガスを第1隔板に形成された透孔に垂設された排ガス分散管を通して第1室に収容されている吸収液中に吹込むこと、(iv)第1室の上部空間に存在する排ガスを第1室と第3室との間を連絡し、その上端が第2隔板表面より上方に位置する排ガス上昇筒内を上昇させること、(v)排ガス上昇筒を通して第3室に上昇してきた排ガスをその排ガス上昇筒の上方に配設されている液体流下壁を有し、その先端から洗浄液が液幕状に流下している排ガス衝突板に衝突させるとともに、排ガスをその液幕と接触させること、(vi)第3室内において前記液幕と接触させた後の排ガスを第3室に配設された排ガス出口から排出させること、(vii)第3室から排出された後の排ガスをミストエリミネータに導入し、排ガス中に含まれる液滴粒子を除去した後、ミストエリミネータから抜出すこと、(viii)ミストエリミネータから抜出した排ガスを湿式電気集塵処理することなく大気中へ放出させること、を特徴とする排ガスの処理方法。

IPC (9)：

B01D 53/50 , B01D 53/77 , B01D 46/00 , B01D 47/00 , B01D 50/00 501 , B01D 50/00 , B01D 50/00 502 , B01D 53/18 , B01D 53/34 ZAB

FI (9)：

B01D 53/34 125 Q , B01D 46/00 E , B01D 47/00 D , B01D 50/00 501 K , B01D 50/00 501 Z , B01D 50/00 501 G , B01D 50/00 502 A , B01D 53/18 A , B01D 53/34 ZAB

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