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J-GLOBAL ID：200903056074318011

光記録媒体作製用原盤の製造方法

Inventor： 増原 慎
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 松隈 秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001208357
Publication number (International publication number)：2003022534
Application date： Jul. 09, 2001
Publication date： Jan. 24, 2003
Summary：

【要約】【課題】 電子線のビーム電流を変えることなくレジスト感光量を制御して、CAV(角速度一定)記録方式を可能にするパターン描画を可能とし、CAV記録方式にも対応可能な光記録媒体作製用原盤の製造方法を提供する。【解決手段】 原盤用基板1の上に塗布された感光層2の所定領域に、電子線描画によるパターン描画及び現像によって、情報の記録及び/又は再生に必要な凹凸パターンを形成する工程と、この凹凸パターンを、光記録媒体用の基板に転写する工程とを有する光記録媒体作製用原盤の製造方法にあって、凹凸パターンを、電子線の記録ビームが描画している間、記録ビームのスポット3を、記録方向のほぼ接線方向に移動速度Vs でウォブルさせる。

Claim (excerpt)：

原盤用基板の上に塗布された感光層の所定領域に、電子線描画によるパターン描画及び現像によって、情報の記録及び/又は再生に必要な凹凸パターンを形成する工程と、上記凹凸パターンを、光記録媒体用の基板に転写する工程とを有する光記録媒体作製用原盤の製造方法にあって、上記凹凸パターンを、電子線の記録ビームが描画している間、上記記録ビームのスポットを、記録方向のほぼ接線方向に移動速度Vs でウォブルさせ、上記記録ビームが描画していない時間Toff より短い時間Tb の間に、上記記録ビームのスポットをウォブル前の初期位置へ戻し、上記記録ビームのスポットの移動速度Vs を、上記原盤用基板の半径方向の位置に対応して変化する記録線速度Vに対応して制御して、上記記録ビームのスポットと、上記原盤用基板との相対速度Vrel を、ほぼ一定に保ちながら上記感光層に対するパターン描画を行うことを特徴とする光記録媒体作製用原盤の製造方法。

IPC (4)：

G11B 7/0045 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 504 ,  G11B 7/26 501

FI (4)：

G11B 7/0045 Z ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 504 ,  G11B 7/26 501

F-Term (15)：

2H097AA03 ,  2H097AB06 ,  2H097CA16 ,  2H097JA03 ,  5D090AA01 ,  5D090BB01 ,  5D090CC01 ,  5D090DD03 ,  5D090DD05 ,  5D090EE02 ,  5D090KK10 ,  5D090KK17 ,  5D121BB01 ,  5D121BB21 ,  5D121BB40