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J-GLOBAL ID：200903056098950428

無電解めっき層形成用シートの製造方法、感光性シート及び金属パターンの形成方法

Inventor： 高柳 丘 ,  田中 誠 ,  尾田 年弘 ,  小林 靖典 ,  執行 正路
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 柳川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996040667
Publication number (International publication number)：1997209161
Application date： Feb. 01, 1996
Publication date： Aug. 12, 1997
Summary：

【要約】【課題】 転写法を利用する金属パターンの形成方法を改良した新規な金属パターンの形成方法を提供する。【解決手段】 プラスチックフィルムの表面に設けられた膨潤性の水性樹脂層の上に、金属もしくは金属化合物の微粒子が水に分散された塗布液を塗布することにより、膨潤性の水性樹脂層中に金属及び金属化合物の微粒子を分散させ、次いで乾燥して膨潤性の水性樹脂層を無電解めっき用下地層とすることからなる無電解めっき層形成用シートの製造方法;及び無電解めっき層形成用シートに無電解めっき層及びフォトレジスト層が形成された感光性シートのフォトレジスト層をパターン状に露光、現像して、無電解めっき層の上にレジストパターンを形成させる工程;レジスト不在領域に電解めっき層を形成する工程;レジストパターンとめっき層とを同時に基板上に転写する工程;そしてプラスチックフィルムを剥がし取る工程を順次行なう金属パターンを形成させる方法。

Claim (excerpt)：

プラスチックフィルムの表面に設けられた膨潤性の水性樹脂層の上に、金属もしくは金属化合物の微粒子が水に分散された塗布液を塗布することにより、膨潤性の水性樹脂層中に金属及び金属化合物の微粒子を分散させ、次いで乾燥して膨潤性の水性樹脂層を無電解めっき用下地層とすることからなる無電解めっき層形成用シートの製造方法。

IPC (4)：

C23C 18/20 ,  C23C 18/38 ,  C25D 3/38 101 ,  H05K 3/20

FI (4)：

C23C 18/20 Z ,  C23C 18/38 ,  C25D 3/38 101 ,  H05K 3/20 B