排ガス洗浄装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：角田嘉宏 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999079689
Publication number (International publication number)：2000271421
Application date： Mar. 24, 1999
Publication date： Oct. 03, 2000
Summary：

【要約】【課題】下端が散水洗浄部に連通する導入管の上端に旋回水室を設け、その中心のガス入口管との間の環状間隙から流下する洗浄水の旋回流によって導入管の内面に水膜を形成する排ガス導入部を散水洗浄部の前段に設けた排ガス洗浄装置において、ガス入口管の付着物除去頻度を低減すると共に排ガス洗浄効果を高めること。【解決手段】排ガス導入部(11)のガス入口管(30)を外側管(31)と内側管(32)との2重管構造とし、外側管(31)と内側管(32)の間隙(41)に乾燥ガスを供給して、洗浄水と接する外側管(31)の下端を排ガスから遮断し、ガス入口管(30)への付着性物質の付着を防止する。また、散水洗浄部(14)の後段に充填材処理部(16)を一体に形成し、散水洗浄部(14)の処理ガスを吸引して充填材処理部(16)に移送するベンチュリー部(15)を装置内部に設けて、コンパクトで洗浄効果の高い排ガス洗浄装置(10)を形成する。

Claim (excerpt)：

付着性物質を含む排ガスの散水洗浄装置であって、下端が散水洗浄部に連通する導入管の上端に旋回水室を形成し、その中心のガス入口管と旋回水室の縮径底部との間の環状間隙から流下する旋回水流により導入管の内面に水膜を形成する排ガス導入部を、散水洗浄部の前段に設けた排ガス洗浄装置において、上記排ガス導入部のガス入口管を、相互に間隔を隔てて互いに分離可能な外側管と内側管とで形成したことを特徴とする排ガス洗浄装置。

IPC (5)：

B01D 47/00 , B01D 45/16 , B01D 47/06 , B01D 50/00 501 , B01D 50/00

FI (6)：

B01D 47/00 B , B01D 45/16 , B01D 47/06 A , B01D 50/00 501 J , B01D 50/00 501 M , B01D 50/00 501 L

F-Term (24)：

4D031AB10 , 4D031AB29 , 4D031AC02 , 4D031BA01 , 4D031BA04 , 4D031BA06 , 4D031BA10 , 4D031DA04 , 4D031EA01 , 4D032AB06 , 4D032AB09 , 4D032AB10 , 4D032AC05 , 4D032AC07 , 4D032AC08 , 4D032AC21 , 4D032AC39 , 4D032AD01 , 4D032AD04 , 4D032AD06 , 4D032AD09 , 4D032BA03 , 4D032BB07 , 4D032BB17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

特開平4-290519
半導体排ガス除害方法とその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-031458 Applicant：カンケンテクノ株式会社
特開平4-290525

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