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J-GLOBAL ID:200903056165286244

ラクトン環を側鎖に有する(メタ)アクリル酸重合体及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 東海 裕作 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000186118
Publication number (International publication number):2002003533
Application date: Jun. 21, 2000
Publication date: Jan. 09, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】単峰性で分子量分布が狭く、分子量の制御されたラクトン環を側鎖に有する(メタ)アクリル系重合体及びその製造方法の提供。【解決手段】アルカリ金属又は有機アリカリ金属を重合開始剤とするアニオン重合法により、式III化合物及びIV(式中、R1は、H、メチル基、R3、R4は置換基可能C1〜C8アルキル基、置換基可能アリール基、アルコキシカルボニル基、R2、R5、R6はH、置換基可能C1〜C8アルキル基、置換可能アリール基、又はアルコキシカルボニル基、nは1〜3)式4化合物(式中、R7は、H、メチル基、R8は置換基可能C1〜C12アルキル基、置換基可能C3以上の脂環式骨格を有する炭化水素基、該脂環式骨格を有する炭化水素基を有するアルキル基、又はヘテロ基)を重合させるアルリル酸系重合体の製造方法。
Claim (excerpt):
【請求項1】一般式(I)【化1】(式中、R1は、水素原子又はメチル基を表し、R3、及びR4は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいC1〜C8のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又はアルコキシカルボニル基を表し、R2、R5及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいC1〜C8のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又はアルコキシカルボニル基を表し、R2及びR5、並びにR3及びR5は一緒になって、環を形成してもよい基を表し、nは1〜3のいずれかの整数を表し、nが2以上の場合、R5、R6はそれぞれ独立に、同一又は相異なっていてもよい基を表し、環内の炭素-炭素結合には、適宜2重結合を含んでいてもよい。)で表される繰り返し単位(A)を有し、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比Mw/Mnが1.00〜1.50であることを特徴とする(メタ)アクリル酸系重合体。
IPC (7):
C08F 20/26 ,  C08F 4/46 ,  C08F220/12 ,  C08F220/26 ,  C08F293/00 ,  C08F297/02 ,  G03F 7/039 601
FI (7):
C08F 20/26 ,  C08F 4/46 ,  C08F220/12 ,  C08F220/26 ,  C08F293/00 ,  C08F297/02 ,  G03F 7/039 601
F-Term (50):
2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ05 ,  2H025CB43 ,  2H025FA17 ,  4J015DA02 ,  4J026HA11 ,  4J026HA26 ,  4J026HA32 ,  4J026HA39 ,  4J026HA49 ,  4J026HB11 ,  4J026HB32 ,  4J026HB39 ,  4J026HB43 ,  4J026HB45 ,  4J026HB48 ,  4J026HE01 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA04Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA10P ,  4J100BA10Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA72Q ,  4J100BB01Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC58P ,  4J100BC65Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA04 ,  4J100FA08 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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