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J-GLOBAL ID：200903056172302832

スパッタ膜の作製方法及び対向ターゲット式スパッタリング装置

Inventor： 吉川 雅人 ,  野口 智子
Applicant, Patent owner： 株式会社ブリヂストン
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997203856
Publication number (International publication number)：1999029860
Application date： Jul. 14, 1997
Publication date： Feb. 02, 1999
Summary：

【要約】【解決手段】 互いに対向するターゲット間のスパッタ空間の側方に基板を配置し、該基板上にスパッタ膜を形成する対向ターゲット式スパッタリング法にてスパッタ膜を作製するに際し、上記2個のターゲットに互いに180度位相のずれた交流電圧を印加することを特徴とするスパッタ膜の作製方法。【効果】 本発明によれば、速い成膜速度でスパッタ膜を作製することができる。

Claim (excerpt)：

互いに対向するターゲット間のスパッタ空間の側方に基板を配置し、該基板上にスパッタ膜を形成する対向ターゲット式スパッタリング法にてスパッタ膜を作製するに際し、上記2個のターゲットに互いに180度位相のずれた交流電圧を印加することを特徴とするスパッタ膜の作製方法。

IPC (2)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/08

FI (2)：

C23C 14/34 D ,  C23C 14/08 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭58-213875
  
• 特公昭61-060908
  
• 特開昭58-204175
  
• 特開昭63-121658