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J-GLOBAL ID：200903056211054884

無機分離膜及びその製造方法

Inventor： 大嶋 仁英 ,  積 洋二
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997205020
Publication number (International publication number)：1999047568
Application date： Jul. 30, 1997
Publication date： Feb. 23, 1999
Summary：

【要約】【課題】各種混合流体から特定成分を分離する際、透過率及び透過係数比の特性に優れ、薄膜化が容易で、とりわけ大気中や各種燃焼排気ガスあるいは反応ガス中から二酸化炭素や酸素を、特に高温の二酸化炭素を優先的に分離するのに好適な耐熱性に優れたシリカ質の無機分離膜及びその製造方法を得る。【解決手段】アルコール溶媒中で部分加水分解したシリコンのアルコキシドと、Si原子に直接結合した有機官能基を有するシリコンのアルコキシド及びジルコニウムのアルコキシドとの複合アルコキシドを作製し、該複合アルコキシドを加水分解して得た前駆体ゾルを無機多孔質体に塗布後、乾燥し、350〜600°Cの温度で焼成して無機分離膜とする。

Claim (excerpt)：

シリコンのアルコキシドと、有機官能基を有するシリコンのアルコキシド及びジルコニウムのアルコキシドとをアルコール溶媒中で複合化し、該複合アルコキシドを加水分解して得た前駆体ゾルの焼成体から成ることを特徴とする無機分離膜。