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J-GLOBAL ID：200903056225711756
フォトソルダーレジスト露光方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
青木 輝夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992352441
Publication number (International publication number)：1994180507
Application date： Dec. 11, 1992
Publication date： Jun. 28, 1994
Summary：
【要約】【目的】 プリント基板と焼付用マスクの位置合わせ精度が露光前に確認できるプリント基板のフォトソルダーレジスト露光方法を提供することである。【構成】 プリント基板1上の任意の位置に基準マーク5を設け、焼付用マスク2上のそのマークへ対応した位置にプリント基板1上の基準マーク形状よりも小さい基準マーク6を設けてこれらの基準マーク5,6を整合し、プリント基板1と焼付用マスク2の位置合わせ精度の確認を行うようにした。
Claim (excerpt)：
プリント基板上の任意の位置に基準マークを設け、焼付用マスク上のその位置に対応した位置にプリント基板上の基準マーク形状よりも小さい基準マークを設けてこれらの基準マークを整合しプリント基板と焼付用マスクの位置合わせ精度を確認するようにしたことを特徴とするフォトソルダーレジスト露光方法。
IPC (2)：
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