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J-GLOBAL ID:200903056250708646

触媒組成物およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 浜田 治雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001226864
Publication number (International publication number):2002045706
Application date: Jul. 26, 2001
Publication date: Feb. 12, 2002
Summary:
【要約】【課題】 改良された金属触媒組成物、特に支持金属触媒組成物を提供する。【解決手段】 支持金属触媒組成物の製造方法であって、この方法は微小球状支持体粒子に少なくとも1種の触媒活性金属もしくはその先駆体の溶液を含浸させ、含浸支持粒子を乾燥させ、次いで可動性金属もしくは先駆体を可動状態にて少なくとも1種の還元剤からなる液体で処理して、金属もしくはその先駆体を支持体粒子内に沈着もしくは不動化させて金属もしくはその先駆体が支持体粒子の表面より下の層にて支持体粒子に分配されるようにし、層はより低濃度の金属もしくは先駆体有する内側領域と外側領域との間に存在する。組成物は少なくとも1種の触媒活性金属もしくはその先駆体が粒子の表面より下の層に分配された微小球状支持体粒子からなり、層がそれぞれ金属もしくは先駆体の低濃度を有する支持体粒子の内側領域と外側領域との間に存在する。
Claim (excerpt):
微小球状支持体粒子に少なくとも1種の触媒活性金属もしくはその先駆体の溶液を含浸させて金属もしくはその先駆体を支持体粒子にて可動状態にし、含浸支持体粒子を乾燥させ、次いで支持体粒子における可動金属もしくは先駆体を少なくとも1種の還元剤からなる液体で処理して支持体粒子における金属もしくはその先駆体を沈着および不動化させ、金属もしくはその先駆体を前記支持体粒子の表面より下の層にて支持体粒子に分配させ、前記層が内側領域と外側領域との間に存在するようにし、前記内側および外側領域のそれぞれは前記層よりも低い濃度の前記金属もしくは先駆体を有することを特徴とする支持金属触媒組成物の製造方法。
IPC (8):
B01J 37/02 101 ,  B01J 23/58 ,  B01J 23/66 ,  B01J 35/08 ,  B01J 37/16 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 67/055 ,  C07C 69/15
FI (8):
B01J 37/02 101 E ,  B01J 23/58 Z ,  B01J 23/66 Z ,  B01J 35/08 Z ,  B01J 37/16 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 67/055 ,  C07C 69/15
F-Term (54):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02B ,  4G069BA21C ,  4G069BB01C ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BB20C ,  4G069BC01A ,  4G069BC02C ,  4G069BC03B ,  4G069BC08A ,  4G069BC29A ,  4G069BC31A ,  4G069BC33A ,  4G069BC33B ,  4G069BC41A ,  4G069BC43A ,  4G069BC69A ,  4G069BC72A ,  4G069BC72B ,  4G069BD01C ,  4G069BD06C ,  4G069BE05C ,  4G069BE06C ,  4G069BE08C ,  4G069CB30 ,  4G069DA06 ,  4G069EA04X ,  4G069EA04Y ,  4G069EB15X ,  4G069EB18X ,  4G069EC29 ,  4G069FA01 ,  4G069FA02 ,  4G069FB13 ,  4G069FB45 ,  4G069FC04 ,  4G069FC08 ,  4H006AA02 ,  4H006AA05 ,  4H006AC12 ,  4H006AC48 ,  4H006BA05 ,  4H006BA08 ,  4H006BA25 ,  4H006BA81 ,  4H006BA85 ,  4H006BC32 ,  4H006BE30 ,  4H006KA13 ,  4H039CA21 ,  4H039CA66 ,  4H039CF10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (9)
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