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J-GLOBAL ID：200903056258208812

フォトレジスト用高分子化合物及び感光性樹脂組成物

Inventor： 堤 聖晴 ,  井上 慶三 ,  舩木 克典 ,  中野 達也 ,  宝来 晃
Applicant, Patent owner： ダイセル化学工業株式会社
Agent (1)： 後藤 幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001153173
Publication number (International publication number)：2002338627
Application date： May. 22, 2001
Publication date： Nov. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】 フォトレジスト用として用いた場合に高いエッチング耐性を示す高分子化合物を得る。【解決手段】 下記式(Ia)〜(Ig)【化1】[式中、Raは水素原子又はメチル基を示す。R1、R2は水素原子又は炭素数1〜5の炭化水素基を示す。R3は置換基を有していてもよい第3級炭化水素基等を示す。R4は水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、ヒドロキシル基等を示す。Aは単結合、メチレン基、エチレン基等を示す。Lは置換基を有していてもよい5員環以上のラクトン環を示す。Xは置換基を有していてもよい2価の脂環式基を示す。Y、Y1、Y2は置換基を有していてもよい1価の脂環式基を示す(但し、式(Ic)におけるYについては、nが0のときは、置換基を有していてもよいアダマンチル基を除く)。mは0又は1を示す。n、n1、n2は0、1又は2を示す]から選択された少なくとも1種のモノマー単位を含む高分子化合物。

Claim (excerpt)：

下記式(Ia)〜(Ig)【化1】[式中、Raは水素原子又はメチル基を示す。R1、R2は水素原子又は炭素数1〜5の炭化水素基を示す。R3は置換基を有していてもよい第3級炭化水素基、テトラヒドロピラニル基又はテトラヒドロフラニル基を示す。R4は水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、保護基で保護されていてもよいヒドロキシル基又は保護基で保護されていてもよいヒドロキシメチル基を示す。Aは単結合、メチレン基、エチレン基又はヒドロキシエチレン基を示す。Lは置換基を有していてもよい5員環以上のラクトン環を示す。Xは置換基を有していてもよい2価の脂環式基を示す。Y、Y1、Y2は置換基を有していてもよい1価の脂環式基を示す(但し、式(Ic)におけるYについては、nが0のときは、置換基を有していてもよいアダマンチル基を除く)。mは0又は1を示す。n、n1、n2は0、1又は2を示す]から選択された少なくとも1種のモノマー単位を含む高分子化合物。

IPC (8)：

C08F 20/28 ,  C08F 20/18 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (8)：

C08F 20/28 ,  C08F 20/18 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (26)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA11 ,  4J100BA12 ,  4J100BA20 ,  4J100BC07 ,  4J100BC08 ,  4J100BC09 ,  4J100BC12 ,  4J100BC53 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-120919   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-101333   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 耐塩性吸収剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-136530   Applicant：三洋化成工業株式会社