ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002074337
Publication number (International publication number)：2002351081
Application date： Mar. 18, 2002
Publication date： Dec. 04, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ塗布性、現像欠陥を満足するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(I)の構造の繰り返し単位を少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。例えば

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(I)で示される繰り返し単位を少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していても良い、アルキル基又はハロアルキル基を表す。R2、R3は同じでも異なっていても良く、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシル基又は置換基を有していても良いアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。R4は水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、パーフルオロアルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルメチル基、又は式(II)の基を表す。【化2】R5、R6は同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基もしくはシクロアルキル基を表す。R7は置換基を有していても良いアルキル基、パーフルオロアルキル基、シクロアルキル基、パーフルオロシクロアルキル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。またR5〜R7の2つが結合し、環を形成しても良い。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

F-Term (19)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-254106 Applicant：住友化学工業株式会社

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