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J-GLOBAL ID：200903056281595351

段差パターンの位置ずれ検査方法とそのための装置

Inventor： 儀賀 愛博 ,  小沢 英明
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 柏谷 昭司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993015149
Publication number (International publication number)：1994232228
Application date： Feb. 02, 1993
Publication date： Aug. 19, 1994
Summary：

【要約】【目的】 段差パターンの位置ずれ検査方法とそのための装置に関し、機械的な調節をすることなく段差パターンの位置ずれを検査する手段を提供する。【構成】 ウェハ上に形成された段差を有する第1のパターンと第2のパターンに照射光を照射し、この照射光の第1のパターンによる反射光を光センサに入射させて鮮明な画像データに変換してメモリに蓄積し、第2のパターンによる反射光を第1のパターンの反射光より長い段差分だけ光路を経て光センサに入射させて鮮明な画像データに変換してメモリに蓄積し、両画像データを比較して、両パターン位置ずれを検査する。屈折率が変化する電気光学素子を用いて段差分だけ実効焦点距離を調節することもできる。また、段差に相当するレンズ系の焦点距離差を有する複数の波長の照射光を用い、各段のパターンを異なる波長の鮮明な画像として得ることによって位置ずれを正確に検査することもできる。

Claim (excerpt)：

ウェハ上に形成された段差を有する複数のパターンの相対的位置ずれを光学レンズ系によって検査する方法において、検査対象のウェハに照射光を照射し、該照射光が第1のパターンによって反射される反射光を光センサに入射させて第1のパターンの鮮明な画像データに変換してメモリに蓄積し、他方、第2のパターンによって反射される反射光を第1のパターンと第2のパターンの段差に相当する距離だけ第1のパターンからの反射光より長い光路を経て該光センサに入射させて第2のパターンの鮮明な画像データに変換してメモリに蓄積し、該メモリに蓄積された両画像データを比較することによって、第1のパターンと第2のパターンの相対的位置ずれを検査することを特徴とする段差パターンの位置ずれ検査方法。

IPC (4)：

H01L 21/66 ,  G01B 11/00 ,  G06F 15/62 405 ,  G06F 15/64 325