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J-GLOBAL ID：200903056302080306

ポリマーポリオールと予備形成された安定剤システム

Inventor： フォグ,グラエメ ダグラス
Applicant, Patent owner： ポリオール インターナショナル ベスローテン フェンノートシャップ
Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997516211
Publication number (International publication number)：1999513739
Application date： Oct. 23, 1995
Publication date： Nov. 24, 1999
Summary：

【要約】式 RnSiX4n又は RnSi((-OSi(R1)2)pX)4-n〔ここでR基は、独立に飽和又は不飽和の炭化水素基であり、少なくとも1つのR基はオレフィン系不飽和炭化水素基である。R1は炭化水素基、XはC1〜C10のアルコキシ基、nは1〜3の整数であり、又pは0より大きい整数である。〕の珪素原子含有化合物と 400を越える平均分子量を有し、又20〜280 の範囲の水酸基価を有するポリエーテルポリオールとを反応させることによって得られる前駆物質安定剤を基礎とする、予備形成された安定剤組成物を用いて、(a)高ポリマー含量(30重量パーセント〜60重量パーセント)、(b)低粘度(典型的には 9,000センチポイズより低い)、(c) 150メッシュ篩を 100%透過し、及び(d) 700メッシュ篩をポリマー固体成分の 100%まで透過する程の安定性を併せて有するポリマーポリオールを製造する。

Claim (excerpt)：

コポリマーポリオールの製造に用いる、下記(i)〜(iv)の反応生成物を含む予備形成された安定剤組成物。(i)ポリオール、(ii)式 RnSiX4-n又は RnSi((-OSi(R1)2)pX)4-nの珪素原子含有化合物と、 400を越える平均分子量を有し、20〜280 の範囲の水酸基価を有するポリエーテルポリオールとを反応させて得られる前駆物質安定剤、(ここで、R基は独立に飽和又は不飽和の炭化水素基であり、少なくとも1つのR基はオレフィン系不飽和炭化水素基である。R1は炭化水素基、XはC1〜C10のアルコキシ基、nは1〜3の整数であり、又pは0より大きい整数である。)(iii)前記前駆物質安定剤と共重合可能な、少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、及び(iv)フリーラジカル重合開始剤。

IPC (2)：

C08F291/08 ,  C08G 18/50

FI (2)：

C08F291/08 ,  C08G 18/50 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• ポリマー/ポリオール分散体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-137817   Applicant：ポリオルインターナショナルビーブイ
• 特開昭60-147422