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J-GLOBAL ID:200903056310258432

プラズマ生成方法、プラズマ生成装置、プラズマ利用表面処理方法、並びにプラズマ利用ガス処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 矢野 正行
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998028277
Publication number (International publication number):1999224795
Application date: Feb. 10, 1998
Publication date: Aug. 17, 1999
Summary:
【要約】【目的】 チャージアップに起因するプラズマ生成時の弊害を除去すると共に、スムーズなプラズマの生成を極めて簡素な構成をもって低コストで行えるようにし、且つ長時間にわたるプラズマの安定化を図る。【構成】 高圧直流電源12及び小型スイッチング回路13を有するインバータ電源11を用いてパルス波形を呈する交番電圧を生じさせると共に、相互に対向状に配設された一対の電極6に対して上記交番電圧を印加することによりプラズマを生成させるように構成する。そして、光強度検出手段15または電流値検出手段22もしくはインピーダンス検出手段からの信号に基づいてプラズマの状態を一定の目標状態に維持するための制御手段19を備える。
Claim (excerpt):
高圧直流電源及び小型スイッチング回路を有するインバータ電源を用いてパルス波形を呈する交番電圧を生じさせると共に、相互に対向状に配設された一対の電極に対して上記交番電圧を印加することによりプラズマを生成させるようにしたことを特徴とするプラズマ生成方法。
IPC (4):
H05H 1/36 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (4):
H05H 1/36 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

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