汚染が防止された真空紫外域の光学装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994076878
Publication number (International publication number)：1995280721
Application date： Apr. 15, 1994
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】真空紫外光を用いた測定機器等において、200nm付近に生じる原因不明の吸収をなくし、光学系の特性劣化や迷光、S/N比の低下等が発生しない光学装置を提供する。【構成】装置のハウジングの真空排気の際、真空排気経路から混入する汚染物質の影響を排除する手段を、ハウジング内もしくは真空排気経路中に設けることにより、精度の高い光学測定、加工等が可能となる。

Claim (excerpt)：

真空排気が可能なチャンバーと、その外部に設けられた真空排気経路と、チャンバー内部に設けられた光学系とを有する光学装置において、真空排気の際に真空排気経路からチャンバー内部に混入する汚染物質の影響を排除する手段を設けたことを特徴とする光学装置。

IPC (4)：

G01N 21/15 , F04D 19/04 , G01N 21/33 , G02B 27/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭61-239160
特開昭59-009784
特開昭61-239160

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