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J-GLOBAL ID：200903056330429527

透明導電性被膜付基材、その製造方法および該基材を備えた表示装置

Inventor： 平 井 俊 晴 ,  小 松 通 郎
Applicant, Patent owner： 触媒化成工業株式会社
Agent (1)： 鈴木 俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994208972
Publication number (International publication number)：1996077832
Application date： Sep. 01, 1994
Publication date： Mar. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 反射防止性能に優れ、しかも電磁遮蔽効果に優れた透明導電性被膜付基材、その製造方法およびこのような透明導電性被膜付基材で構成された前面板を備えた表示装置を提供する。【構成】 平均粒径2〜200nmの金属微粒子からなる透明導電性微粒子層が基材上に形成され、前記微粒子層上に該微粒子層よりも屈折率の低い透明被膜が形成されている透明導電性被膜付基材、前記金属微粒子を水および/または有機溶媒中に分散してなる塗布液を基材上に塗布・乾燥して透明導電性微粒子層を形成し、次いで前記微粒子層上に該微粒子層よりも屈折率の低い透明被膜を形成する透明導電性被膜付基材の製造方法、および前記透明導電性被膜付基材を前面板に用いた表示装置。

Claim (excerpt)：

平均粒径2〜200nmの金属微粒子からなる透明導電性微粒子層が基材上に形成され、前記微粒子層上に該微粒子層よりも屈折率の低い透明被膜が形成されていることを特徴とする透明導電性被膜付基材。

IPC (5)：

H01B 5/14 ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/30 370 ,  H01B 13/00 503 ,  H04N 5/65