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J-GLOBAL ID:200903056338440813

感光性樹脂組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002257936
Publication number (International publication number):2004094118
Application date: Sep. 03, 2002
Publication date: Mar. 25, 2004
Summary:
【課題】高感度で現像時及びキュア後において高残膜率のパターンを得られ、同時に微細パターンの解像性及びパターン形状に優れ、さらには、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜用途として要求される耐熱性と力学的性能をも高レベルで満足する感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)特定のフェノール性ヒドロキシ基を含有する繰り返し単位と非フェノール性の繰り返し単位とを有するポリイミド樹脂と、(B)キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
(A)下記一般式(I)
IPC (4):
G03F7/037 ,  C08G73/10 ,  G03F7/022 ,  H01L21/027
FI (4):
G03F7/037 501 ,  C08G73/10 ,  G03F7/022 ,  H01L21/30 502R
F-Term (30):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB25 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J043PA04 ,  4J043PA09 ,  4J043PC06 ,  4J043QB31 ,  4J043RA33 ,  4J043RA34 ,  4J043RA35 ,  4J043SA06 ,  4J043SB02 ,  4J043TA14 ,  4J043TB01 ,  4J043UA11 ,  4J043UA14 ,  4J043UA15 ,  4J043UA16 ,  4J043UA17 ,  4J043UA18 ,  4J043WA05 ,  4J043WA11 ,  4J043ZA51 ,  4J043ZB22
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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