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J-GLOBAL ID：200903056346084171

投影露光方法および投影露光装置

Inventor： 老泉 博昭 ,  寺澤 恒男 ,  伊東 昌昭 ,  武田 英次
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 中村 純之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992326507
Publication number (International publication number)：1994177003
Application date： Dec. 07, 1992
Publication date： Jun. 24, 1994
Summary：

【要約】【目的】局所的な熱膨張がない高精度パタンにより転写を行うX線縮小投影露光方法を得る。【構成】反射型マスク81や多層膜反射鏡等を含む結像光学系95を用いてパタン転写する露光投影装置に、ビーム照射による反射型マスク81の表面膨張を均一化する加熱手段101を設ける。

Claim (excerpt)：

少なくとも真空紫外線領域またはX線領域のビームを放射する光源を用いて、第1の光学素子を照射し、上記第1の光学素子に描かれたパタンを、第2光学素子を含む結像光学系を介して基板上に縮小転写する投影露光方法において、上記ビームを上記第1の光学素子に照射する際に、上記ビームで照射する領域以外の領域を、連続的または間欠的に加熱しながらパタン転写を行うことを特徴とする投影露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521