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J-GLOBAL ID：200903056357598258

パルスレーザ蒸着法によるセラミックス複合系材料薄膜の製造方法

Inventor： 三浦 貞彦
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 菅野 中
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991360581
Publication number (International publication number)：1993179430
Application date： Dec. 28, 1991
Publication date： Jul. 20, 1993
Summary：

【要約】【目的】 パルスレーザ蒸着法で、微粒子のない表面平滑で良質なセラミックス複合系材料薄膜を作成する。【構成】 パルスレーザ蒸着法で作成する複合系材料の各構成元素の単体例えば、Y金属1,Ba金属2,Cu金属3を必要な面積比率に配置してホルダーにはめ込んだターゲットTを使用して成膜を行う。金属ターゲットを用いることにより、従来セラミックスターゲットを用いたときの膜中への微粒子の混入が避けられ、表面平滑で良質な薄膜が作成可能となる。更に面積比率を変えることにより容易に組成制御が可能となる。

Claim (excerpt)：

ターゲットにパルスレーザ光を照射し、ターゲット物質を蒸発させて基板にセラミックス複合系材料薄膜を堆積させるパルスレーザ蒸着法によるセラミックス複合系材料薄膜の製造方法であって、ホルダーに複合系材料の各構成元素の単体金属をはめ込んだターゲットを用いることを特徴とするパルスレーザ蒸着法によるセラミックス複合系材料薄膜の製造方法。

IPC (2)：

C23C 14/28 ,  C23C 14/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭64-043917
  
• 特開平2-160609
  
• 特開平2-197565