Pat
J-GLOBAL ID：200903056449489579
膜質改質方法および装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長澤 俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994201942
Publication number (International publication number)：1996064503
Application date： Aug. 26, 1994
Publication date： Mar. 08, 1996
Summary：
【要約】【目的】 ワーク上に選択的に紫外線を照射することができ、紫外線を無駄なくワークに照射することができる膜質改質方法および装置を提供すること。【構成】 ワークステージ15に薄膜が形成されたワークWを載せ、マスクMの全面とワークWが接触するまでワークWを上昇させたのち、ワークステージを所定量下降させる。この操作により、マスクとワークの平行出しおよび間隙設定が行われる。ついで、ワークWとマスクのアライメントを行った後、遮光部分にパターンが形成されたマスクMを通してワークWに紫外線を照射する。マスクMを通してワーク上に紫外線を照射しているので、特性を変えたくない部分に紫外線が照射されることがない。また、ワークとマスクのX,Y方向の相対位置を変化させてワークWの分割逐次照射を行うことにより、照射を必要としない隙間部分に紫外線が照射されることがなく、紫外線を無駄なく照射できる。
Claim (excerpt)：
ワーク上に形成された薄膜に紫外線を照射して、膜質の改質/改善を行う膜質改質方法において、上記ワークとマスクを近接させた状態で紫外線をマスクを通してワークに照射し、膜質の改質/改善を行うことを特徴とする膜質改質方法。
IPC (3)：
H01L 21/027
, B01J 19/12
, G03F 7/20 502
