Pat
J-GLOBAL ID:200903056453402941

微小線幅測定装置及びその方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993014150
Publication number (International publication number):1994229720
Application date: Jan. 29, 1993
Publication date: Aug. 19, 1994
Summary:
【要約】【目的】あらかじめ登録処理を行なって画像上の測定部位を機械的な座標教示手段で位置合わせをする事なく登録時に指定した微小寸法測定を実現する。【構成】微小線幅測定対象の測定画像中の特徴的な一部画像を特徴モデルとして抽出し、その一部画像の特定座標を基準に測定したい線幅位置に測定ウィンドウを設置し、基準からのオフセット量を測定ウィンドウ・オフセット座標として求め、さらに線幅測定のためのパラメータを決定して、これら3つのデータを1つのデータセットとして余め登録しておき、登録時と同一の測定対象の測定において、登録してあるデータセットを用いて、特徴モデルと最も類似した測定画像の一部を検出し、その特定座標を基準に、測定ウィンドウ・オフセット座標分だけ移動した座標に測定ウィンドウを設置し、測定パラメータに従った測定を行う。
Claim (excerpt):
測定対象の表面形状を2次元平面上に結像する結像手段と、この結像によって得られた画像情報を電気信号に変換する撮像手段と、前記電気信号の信号レベルに応じて多値化された数値データを発生する入力処理手段と、前記数値データを一時記憶するフレームメモリ手段と、画像データ等を演算処理する演算処理手段と、画像データ及び演算データを記憶する記憶手段と、画像データ及び演算データを出力する出力手段と、前記演算処理手段への指示を入力する入力手段と、を具備する微小線幅測定装置において、液晶パネル基板や半導体チップの表面形状における微小線幅測定対象の測定画像中の特徴的な一部画像を特徴モデルとして抽出し、その一部画像の特定座標を基準に、測定したい線幅位置に測定ウィンドウを設置し、基準からのオフセット量を測定ウィンドウ・オフセット座標として求め、さらに線幅測定のためのパラメータを決定して、前記特徴モデル、測定ウィンドウ・オフセット座標、パラメータに関する3つのデータを1つのデータセットとしてあらかじめ登録しておき、登録時と同一の測定対象の測定において、登録してあるデータセットを用いて、特徴モデルと最も類似した測定画像の一部を検出し、その特定座標を基準に、測定ウィンドウ・オフセット座標分だけ移動した座標に測定ウィンドウを設置し、測定パラメータに従った測定を行う手段を具備することを特徴とする微小線幅測定装置。
IPC (2):
G01B 11/02 ,  G06F 15/70 455
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-129848

Return to Previous Page