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J-GLOBAL ID：200903056475521430
フォトマスクブランクの検査方法、フォトマスクの製造方法、フォトマスクブランク及びフォトマスクブランク用ガラス基板
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992043389
Publication number (International publication number)：1993241322
Application date： Feb. 28, 1992
Publication date： Sep. 21, 1993
Summary：
【要約】【目的】 フォトマスクブランクの良否を適確に判定できるフォトマスクブランクの検査方法、この検査方法を用いて生産性よくフォトマスクを製造できるフォトマスクの製造方法、この製造方法に用いるフォトマスクブランク及びフォトマスクブランク用ガラス基板を提供することを目的としたものである。【構成】 本発明の検査方法及びこの検査方法を用いたフォトマスクの製造方法は、フォトマスクブランクの主表面1の凹凸形状を測定し、この主表面1の凹凸形状が、該主表面に略平行な基準平面2に対して略平行な平面であるか又はほぼ単純な凸状もしくは凹状となる曲面形状をなしているか否かによってフォトマスクブランクの良否を判定することにより、フォトマスクブランクの良否の判定精度を著しく向上させ、生産性よく良質のフォトマスクを得ることを可能にしたものである。また、本発明のフォトマスクブランク及びフォトマスクブランク用ガラス基板は、上記判定で良品とされものであるからこれを用いて生産性よく良質のフォトマスクを得ることができる。
Claim (excerpt)：
透孔性基板に転写用微細パターンが形成されてなるフォトマスクの素材として用いられるフォトマスクブランクの良否を判定するフォトマスクブランクの検査方法であって、前記フォトマスクブランクの主表面の凹凸形状を測定し、この主表面の凹凸形状が、該主表面に略平行な基準平面に対して略平行な平面であるか、又は、前記主表面の高さ分布が該主表面の中心から周縁に向かって滑らかな増加傾向を示す単純な凹状の曲面形状であるか、又は、前記主表面の高さ分布が該主表面の中心から周縁に向かって滑らかな減少傾向を示す単純な凸状の曲面形状である否かにより、良否を判定することを特徴としたフォトマスクブランクの検査方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 301 V
